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삼성전자, 10나노 로직 공정 양산 ‘본격화’…‘갤럭시S8’ 탑재
“2017년 2세대 공정 양산 목표, 10나노 공정 장기간 활용”
 
박수민 기자 기사입력 :  2016/10/18 [09:41]
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▲  서울 강남에 위치한 삼성전자 사옥 전경  (사진=문화저널21 DB / 자료사진)


[문화저널21=박수민 기자] 삼성전자가 업계 처음으로 10나노 로직 공정 양산을 시작했다. 지난해 1월 모바일AP 업계 최초로 14나노 공정 양산에 돌입한 것과 더불어 시스템 반도체 분야에서 최첨단 공정 리더십을 확보한다는 계획이다.

 

삼성전자는 지난 17일 기존 14나노 1세대보다 27% 가량 개선된 성능의 10나노 1세대 공정 양산을 시작했다고 밝혔다. 소비전력은 기존보다 40% 절감하고, 웨이퍼 당 생산량을 약 30% 향상시켰다는 설명이다.

 

회사 측에 따르면 10나노 공정 양산을 위해서는 14나노 공정보다 훨씬 정교하고 미세한 회로를 그려 넣는 패터닝 작업이 필요한데, 삼성전자는 기존 장비를 활용해 패터닝 과정을 3번 반복하는 트리플패터닝 기술을 적용해 미세공정의 한계를 극복하고 설계 유연성을 확보했다.

 

또한 오는 2017년에는 성능이 향상된 2세대(10LPE) 공정 양산을 목표로 개발 중이며, 이후에도 지속적인 성능개선과 파생공정 확대를 통해 10나노 공정을 장기간 활용할 방침이다.

 

이외에도 삼성전자는 고객 및 파트너사와의 협업으로 10나노 공정의 디자인 설계 툴을 검증하고, 고객들이 제품을 개발하는 데 도움을 주는 제품 레벨 디자인 키트와 IP 디자인 키트를 제공하는 등 파운드리 에코 시스템을 확대해 나가고 있다.

 

삼성전자 윤종식 부사장은  “이번 10나노 로직 공정 양산으로 자사의 미세 공정기술이 업계 최고 수준임을 다시 한 번 입증했다”며 “지속적인 기술혁신을 통한 미세 공정 기술 확보는 물론 고객에게 차별화된 반도체 솔루션을 제공해 시스템 반도체 사업을 발전시킬 것”이라고 말했다.

 

한편, 삼성전자의 10나노 로직 공정은 내년 초 출시될 ‘갤럭시S8’에 탑재될 것으로 알려졌으며, 이를 기점으로 다양한 제품으로 확대될 예정이다.

 

sumin@mhj21.com



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